光刻机：工信部推广国产DUV光刻机

光刻机：工信部推广国产DUV光刻机

◇事件：工业和信息化部日前印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，其中推广国产DUV光刻机：套刻≤8nm；工信微报介绍称，中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、集成电路设备方面出现了氟化氩光刻机和氟化氪光刻机，这两者均属于DUV光刻机。氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片的量产。这不仅是中国在半导体设备领域的一次重大飞跃，也表明了中国在未来几年内有可能达到国际先进水平的决心。阿斯麦最先进的ARFI的DUV，套刻小于3纳米，而整体多曝光之后可以达到14纳米。

相关公司：

张江高科：持股上海微电子10.779%的股份；

海立股份：微电子装备集团的系统级合作商；

东方嘉盛：提供光刻机寄售维修服务；

麦克奥迪：全球光学显微镜领域龙头；