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国林科技(300786.SZ):半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺

08-18 15:01 18,212

格隆汇8月18日丨国林科技(300786.SZ)在投资者互动平台表示,光刻胶属于有机物的一种,臭氧主要作用之一就是去除有机物,公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。