晶盛机电(300316)：英伟达新一代GPU有望采用碳化硅中介层 SIC衬底新应用打开公司成长空间-格隆汇

机构：东吴证券
研究员：周尔双/李文意

　　投资要点
　　事件：英伟达计划在新一代GPU 芯片的CoWoS 工艺中以碳化硅取代硅中介层，预计2027 年导入。
　　英伟达高阶GPU 均采用CoWoS 结构，后续高性能版本散热需求更高：
　　英伟达GPU 芯片从H100 到B200 均采用CoWoS 封装（芯片-晶圆-基板）技术。CoWoS 通过将多个芯片（如处理器、存储器等）高密度地堆叠集成在一个封装内，显著缩小了封装面积，并大幅提升了芯片系统的性能和能效。但随着GPU 芯片功率增大，将众多芯片集成到硅中介层容易导致更高的散热需求。
　　SiC 凭借其高热导率和高工艺窗口，有望显著提升CoWoS 结构散热并降低封装尺寸：①单晶碳化硅是一种具有高导热性的半导体，其热导率达到490 W/m·K，比硅高出2–3 倍，是高性能CoWoS 结构中介层的理想材料。②与硅中介层相比，单晶SiC 还具有更好的耐化学性，因此可以通过刻蚀制备出更高深宽比的通孔，进一步缩小CoWoS 封装尺寸。
　　美国尼尔森科学采用的350 μm 碳化硅能够制备出109:1 的碳化硅中介层，显著高于常规硅中介层的17:1 深宽比。
　　SiC 新应用场景打开，带来增量市场：以当前英伟达H100 3 倍光罩的2,500 mm中介层为例，假设12 英寸碳化硅晶圆可生产21 个3 倍光罩尺寸的中介层，2024 年出货的160 万张H100 若未来替换成碳化硅中介层，则对应76,190 张衬底需求。台积电预计2027 年推出7×光罩CoWoS来集成更多处理&存储器，中介层面积增至1.44 万mm，对应更多衬底需求。
　　晶盛积极扩产6&8 寸衬底产能，已具备12 寸能力：公司目前已经攻克12 英寸碳化硅晶体生长中的温场不均、晶体开裂等核心难题，实现了12英寸超大尺寸晶体生长的技术突破，成功长出12 英寸导电型碳化硅晶体。
　　盈利预测与投资评级：我们维持公司2025-2027 年归母净利润预测为10.1/12.5/15.4 亿元，当前股价对应动态PE 分别为46/37/30 倍，考虑到公司多业务仍具备成长性，维持“买入”评级。
　　风险提示：碳化硅导入CoWoS工艺不及预期，技术研发不及预期。