龙图光罩(688721.SH)：目前主力产品覆盖130nm及以上制程，核心应用于功率半导体、模拟IC领域

格隆汇1月29日丨龙图光罩(688721.SH)近日接受特定对象调研时表示，全球半导体掩模版市场中，日本凸版、美国Photronics、日本 DNP 三家，合计占据超过 80%以上的份额。公司作为国内独立第三方厂商，聚焦半导体掩模版领域，目前主力产品覆盖 130nm 及以上制程，核心应用于功率半导体、模拟 IC 领域，主要优势在于响应速度快、服务能力强；差距主要体现在先进制程(28nm及以下)研发与量产能力，以及全球客户资源布局上，海外头部厂商已实现 EUV 掩模版量产，技术水平上仍存在一定的差距。